Desarrollaron en la Utec congreso creativo en área de diseño gráfico

La actividad se llevó a cabo de manera conjunta con la organización Diseño UNE, en la que participaron dos expertos salvadoreños y uno de origen guatemalteco.

Texto: Wilber Corpeño
Fotos: cortesía de Rita Araujo

Uno de los auditorios de la Universidad Tecnológica de El Salvador (Utec) fue la sede de un congreso especializado sobre creatividad, que se desarrolló en el marco de la semana global del emprendimiento que impulsa la organización Diseño UNE.

La actividad en el campus de la Utec fue realizada por la coordinación de diseño gráfico de la Facultad de Informática y Ciencias Aplicadas (FICA), en la que los principales protagonistas fueron estudiantes del área.

Por ello la coordinadora del área de diseño gráfico, Rita Araujo, explicó que la jornada se desarrolló con el objetivo de fortalecer las competencias formativas de los estudiantes, pues en la actividad se contó con la participación de dos expertos en la temática, se trata de Mario Pineda, miembro de la Corporación Litográfica de Guatemala, Verónica Alvarado y Alejandro Mártir, de la institución Diseño UNE, quienes compartieron sus experiencias con los estudiantes de la Utec.

Rita Araujo acotó que la presentación de profesionales de la talla de los invitados es de suma importancia, pues aportan insumos que fortalecen las competencias de los estudiantes del área de diseño gráfico.

La profesional destacó que en el marco del mismo congreso se reconoció la calidad y desarrollo académico, estímulo que fue entregado a la estudiante Tatiana López, quien brindó importantes aportes para la institución Diseño UNE, que es una institución que se dedica al diseño de experiencias académicas a través de su propio sistema pedagógico de diseño, con una red iberoamericana de amigos y aliados que comparten su inspiración con la comunidad.

En ese sentido, impactan en la educación de alta calidad por medio de una plataforma académica que cuenta con su propio sistema pedagógico avalado por varios países y revisado por diferentes personalidades del diseño.

     

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